独家 | 中科院研发者回应5纳米光刻技术突破ASML垄断

这是光刻过程中一项细分技术领域的突破，但不是中国光刻机突围 **文 | 陈伊凡 ** 编辑 | 谢丽容 今年7月，在中国科学院官网上发布了一则研究进展，中科院苏州所联合国家纳米中心在《纳米快报》（Nano Letters）上发表了题为《超分 …